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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示上海新阳（300236）新获得一项发明专利授权，专利名为“一种i线光刻胶及其制备方法和应用”，专利申请号为CN202111450762.8，授权日为2025年7月15日。
专利摘要：本发明公开了一种i线光刻胶及其制备方法和应用。本发明公开的i线光刻胶组合物的制备方法包括下列步骤：将i线光刻胶组合物的各组分混合均匀，即可；所述i线光刻胶组合物包括以下组分：树脂、光敏剂、有机硅流平剂和有机溶剂；所述树脂包括下述重量份数的组分：80?90份酚醛树脂、20?50份树脂C和10?15份树脂D；所述酚醛树脂为酚醛树脂A和酚醛树脂B的至少一种；所述有机硅流平剂为聚甲基苯基硅氧烷。采用本发明的i线光刻胶组合物在用于i线光刻时得到的光刻胶图光敏性和分辨率高。
今年以来上海新阳新获得专利授权12个，较去年同期减少了64.71%。结合公司2024年年报财务数据，2024年公司在研发方面投入了2.2亿元，同比增48.02%。
通过天眼查大数据分析，上海新阳半导体材料股份有限公司共对外投资了28家企业，参与招投标项目71次；财产线索方面有商标信息10条，专利信息407条，著作权信息2条；此外企业还拥有行政许可104个。
数据来源：天眼查APP
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