苏大维格获得发明专利授权：“微透镜阵列成像组件的制备方法”
2024年08月17日 阅读:61335
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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示苏大维格（300331）新获得一项发明专利授权，专利名为“微透镜阵列成像组件的制备方法”，专利申请号为CN202110179851.7，授权日为2024年8月16日。
专利摘要：本申请涉及的一种微透镜阵列成像组件的制备方法，包括：S1、提供微透镜阵列组件，微透镜阵列组件包括基底和形成在基底正面的若干微透镜单元，若干微透镜单元形成微透镜阵列；S2、在基底的背面制备若干遮光部，遮光部由挡光材料形成，遮光部正对微透镜单元的位置布置；S3、在正面涂覆黑色光阻材料，黑色光阻材料为负性感光材料；S4、对背面进行紫外泛曝光；S5、溶解去除涂覆在微透镜单元上的黑色光阻材料；S6、去除遮光部。本申请通过在基底的正面涂覆黑色光阻材料、在基底的背面精准的涂覆挡光材料,并在基底的背面进行紫外泛曝光，从而制备得到在微透镜单元的间隙上精确覆盖黑色光阻材料的高效率、高精度的微透镜阵列成像组件。
今年以来苏大维格新获得专利授权21个，较去年同期增加了10.53%。结合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面投入了1.45亿元，同比增0.08%。
数据来源：天眼查APP
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